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钛靶,钛圆靶


  添加时间2015-03-24 06:59:03 产品浏览次数1469
 
钛靶,钛圆靶

 产品介绍:

品   名 纯度 密度 镀膜优势色 形状 常规尺寸 应用行业
钛铝(TiAl)合金靶 2N8-4N 3.6-4.2 玫瑰金/咖啡色 圆柱形 直   径 60/65/95/100*30/32/40/45mm 装 饰 / 工 具
纯铬(Cr)靶 2N7-4N 7.19 白色/黑色 圆柱形
纯钛(Ti)靶) 2N8-4N 4.51 金黄色/枪黑色 蓝色/玫瑰红 圆柱形
纯锆(Zr)靶 2N5-4N 6.5 金色 圆柱形
纯铝(Al))靶 4N-5N 2.7 银色 圆柱形
纯镍(Ni)靶 3N-4N 8.9 金属本色 圆柱形
镍钒(Ni)靶 3N 8.57 蓝绿色 圆柱形
纯铌(Nb)靶 3N 8.57 白色 圆柱形
纯钽(Ta)靶 3N5 16.4 黑色/紫色 圆柱形
纯钼(Mo)靶 3N5 10.2 黑色 圆柱形

靶材的主要性能要求:

1、纯度

纯度是靶材的主要性能指标之一,因为靶材的纯度对薄膜的性能影响很大。不过在实际应用中,对靶材的纯度要求也不尽相同。例如,随着微电子行业的迅速发展,硅片尺寸由6”, 8“发展到12”, 而布线宽度由0.5um减小到0.25um,0.18um甚至0.13um,以前99.995%的靶材纯度可以满足0.35umIC的工艺要求,而制备0.18um线条对靶材纯度则要求99.999%甚至99.9999%。

2、杂质含量

靶材固体中的杂质和气孔中的氧气和水气是沉积薄膜的主要污染源。不同用途的靶材对不同杂质含量的要求也不同。例如,半导体工业用的纯铝及铝合金靶材,对碱金属含量和放射性元素含量都有特殊要求。

3、密度

为了减少靶材固体中的气孔,提高溅射薄膜的性能,通常要求靶材具有较高的密度。靶材的密度不仅影响溅射速率,还影响着薄膜的电学和光学性能。靶材密度越高,薄膜的性能越好。此外,提高靶材的密度和强度使靶材能更好地承受溅射过程中的热应力。密度也是靶材的关键性能指标之一。

4、晶粒尺寸及晶粒尺寸分布

通常靶材为多晶结构,晶粒大小可由微米到毫米量级。对于同一种靶材,晶粒细小的靶的溅射速率比晶粒粗大的靶的溅射速率快;而晶粒尺寸相差较小(分布均匀)的靶溅射沉积的薄膜的厚度分布更均匀。

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